Graf teknolojisi bileşenlerini kullanan iplik fabrikaları, pamuk ya da karışım harmanı olmasına bakılmaksızın tüm iplik uygulamalarını iyileştirmelerine yarayan mükemmel uyumlu garnitürlerden yararlanır
İplik fabrikaları, kullanım ömrü ve proses stabilitesinden taviz vermeden yüksek oranda kirli pamuk seviyeleri ile bile eşit kalitede iplik üretebilir. Hammaddedeki fazla kısa elyaf içeriği ya da çepel oranları da ürünlerin geliştirilme ve garnitürlerin önerilmesi Aşamalarında dikkate alınır.
